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磁控溅射镀膜系统 FJL-560型
  • 仪器地址： 海西院1号楼228
  • 仪器类别： 合成与制备;物理气相沉积
  • 负责人： 吕佩文
  • 仪器国别、厂家： 中国，中国科学院沈阳科学仪器研制中心
  • 联系方式： 13599964980 pwlv@fjirsm.ac.cn
仪器名称：磁控溅射镀膜系统
仪器型号：FJL-560型
仪器国别、厂家：中国，中国科学院沈阳科学仪器研制中心
仪器类别：物理气相沉积
仪器主要部件及参数：

具有多腔室连续进样系统，可同时进行磁控溅射镀膜与离子溅射镀膜。配备有RF与DC电源、偏压电源、高温加热台等，溅射功率为500W，加热温度为600度

仪器主要功能及描述：

各种金属薄膜、氧化物、氮化物薄膜的制备

仪器主要技术指标：

溅射功率为500W，加热温度RT-600度，偏压0-300V

仪器用途：

光电薄膜与器件的制备

应用案例：案例文件
仪器地址：海西院1号楼228
负责人：吕佩文
联系方式：13599964980 pwlv@fjirsm.ac.cn