仪器主要部件及参数：电子束蒸发系统由嵌入式工控机、控制软件、石英晶体膜厚控制仪、光学膜厚控制仪等标准控制模块单元组成。系统的真空室尺寸：Ф900×1000；极限真空度：3×10-4Pa、恢复真空度：4×10-3Pa≤15min；工件夹具：Ф800、工件转动：0-30rpm；基本烘烤：≤350℃；电子束蒸发源：EBS型电子枪、束流偏转角270°、电子束功率：10kW、5kW 2组电阻蒸发；抽气系统：2X-70机械泵、K600扩散泵、ZJ-150罗茨泵；光学监控：GTXMH3000型光学膜厚仪、SQC-310C石英晶振仪；H6型霍尔离子源辅助淀积；充气系统：2～5×10-2Pa自动压强仪、质量流量计；离子轰击：3KV直流电压、功率0.6/1.2KW；深冷捕集器；动力系统。
仪器主要功能及描述：能在硅片、铌酸锂晶圆、钽酸锂晶圆等工作材料覆上厚度可以控制的Cr、SiO2、Zn等薄膜，可以蒸镀各种精密光学膜、电学膜。可通过PLC和工控机联合实现对整个镀膜过程的全自动控制，包括真空系统操作控制及工作动态流程显示、烘烤温度数据及曲线显示、镀膜数据管理、真空度数据以及曲线显示、蒸发过程和膜层厚度监控的功能，并对主要工艺参数进行记录，能实现无人值守的全电脑操作控制。
仪器主要技术指标：极限真空度：3×10-4Pa；恢复真空度：4×10-3Pa≤15min；真空系统：机械泵+扩散泵+罗茨泵；蒸发源：电阻蒸发、电子束蒸发；H6型霍尔离子源辅助淀积；GTXMH3000型光学膜厚仪和SQC-310C石英晶振仪监控膜厚，3KV直流电压和功率0.6/1.2KW的离子轰击。
仪器用途：可在铌酸锂晶圆、钽酸锂晶圆、硅片等工作材料覆上厚度可以控制的Cr、SiO2、Zn等金属/非金属薄膜，可以蒸镀各种精密光学膜、电学膜，例如激光镜、冷光膜、分光膜、减反膜。
