主要部件有冷水机、干泵、空压机、射频电源等，其中Load-Lock双室刻蚀系统，极限真空2.0*10-4Pa；1000W射频源；射频电源13.56MHz。

刻蚀：Si、SiO2、W、石英等

可刻蚀最小线条：400nm（Si）；刻蚀精细度：最小分辨率为900nm（Si）；基片尺寸：最大可达φ225mm；Si基刻蚀速率：＞1μm/min；W刻蚀速率：＞0.1μm/min。

利用高密度等离子体引起的化学反应和反应气体离子轰击产生的物理作用制备光波导，可进行高质量的精细线条刻蚀，并能获得较好的刻蚀面形貌。