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无掩模光刻系统 SF-100XCEL
  • 仪器地址： 海西院9号楼221
  • 仪器类别： 光学性能;光刻机
  • 负责人： 张旭东
  • 仪器国别、厂家： 美国Advanced Micro Patterning,LLC 公司
  • 联系方式： 13600801420 zxd@fjirsm.ac.cn
仪器名称：无掩模光刻系统
仪器型号：SF-100XCEL
仪器国别、厂家：美国Advanced Micro Patterning,LLC 公司
仪器类别：光刻机
仪器主要部件及参数：

无掩模光刻系统，可曝光任意图形，曝光过程自动对焦、适时调整，可兼容1-4英寸样品。曝光系统最小精度1μm，工作模式可在掩膜版和无掩模工作模式之间任意切换。曝光光源波长：350-550 nm

仪器主要功能及描述：

任意图形光刻

仪器主要技术指标：

曝光系统最小精度：1 μm，曝光系统对准精度：±1 μm，光刻图形边缘粗糙度

仪器用途：

用于微纳器件的电极制备。广泛应用于微电子器件领域。

应用案例：
仪器地址：海西院9号楼221
负责人：张旭东
联系方式：13600801420 zxd@fjirsm.ac.cn