福建物质结构研究所上海硅酸盐研究所中国科学院
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    一体化金刚石磨抛设备

    仪器地址: 海西研究院3#107

    仪器国别、厂家:中国  无锡齐勇半导体科技有限公司

    型号规格: (1)切割设备QY-DCS-Lite、(2)减薄设备QY-DL400R、(3)研磨设备QY-DL4T、(4)精密抛光设备QY-DP5-2。

    技术参数

    1、激光整形切割功能

    (1) 加工平整度公差≤0.02mm;

    (2) 激光整形切割去除效率:

        a) 2英寸单晶或者多晶金刚石:平均每片减薄0.1mm耗时≤10分钟;

        b) 4英寸单晶或者多晶金刚石:平均每片减薄0.1mm耗时≤60分钟;

        c) 6英寸单晶或者多晶金刚石:平均每片减薄0.1mm耗时≤180分钟。

    (3) 平台最大速度≥600mm/s;

    2、减薄功能

    (1) 砂轮或磨盘规格≥Φ400mm;

    (2) 工作台最大转速≥300RPM;

    (3) 单晶或者多晶金刚石最大可加工尺寸≥6英寸。

    3、研磨功能

    (1) 去除率:精磨 4英寸以上单晶或者多晶金刚石,MRR≥5.7 µm/h;

    (2) 粗糙度:精磨 4英寸以上单晶或者多晶金刚石,Ra≤150 nm;

    (3) 研磨头加工压力范围≥(0-150)kgf,研磨头压力连续可调;

    (4) 单晶或者多晶金刚石最大可加工尺寸≥6英寸;

    (5) 总厚度偏差:精磨 4英寸以上单晶或者多晶金刚石,TTV≤16µm。

    (6) 研磨头摆动:摆幅摆速可调;

    (7) 修整器:车刀独立修整系统;

    (8) 冷却系统:研磨头冷却,研磨盘冷却;

    (9) 晶圆固定方式:机械固定;

    (10) 柔性加压:柔性加压,加工过程中压力均匀。

    4、抛光功能

    (1) 抛光盘最大转速≥1600 RPM;

    (2) 抛光头最大压力≥60 kgf ,抛光头压力连续可调;

    (3) 粗糙度:抛光4英寸以上单晶或者多晶金刚石,Ra≤2.4nm;

    (4) 单晶或者多晶金刚石最大可加工尺寸≥6英寸;

    (5) 抛光效率:抛光 4英寸以上单晶或者多晶金刚石≤23.8hrs/面;

    (6) 总厚度偏差:抛光 4英寸以上单晶或者多晶金刚石,TTV≤8µm;

    (7) 冷却系统:抛光头冷却,抛光盘冷却;

    (8) 晶圆固定方式:机械固定;

    (9) 万向/刚性可调抛头,柔性加压,抛光头压力均匀、连续可调。


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